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这款磁力计在原有产品的基础上进行了进一步改进，实现了更小的尺寸和更轻的重量。它不仅适用于固定点观测，也非常适合移动观测。其灵敏度为0.1纳特斯拉，精度则为0.2纳特斯拉，性能极为出色。内置的微控制器R
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199 | 日本 | 给我留言 |
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这是一种能够同时测量直流磁场（0～±1000μT）以及频率高达1kHz的交流磁场的X、Y、Z分量的三轴磁场测量仪。在直流模式或交流模式下，均可选择液晶显示或数字输出方式。其传感器部分采用高灵敏度的平行
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125 | 日本 | 给我留言 |
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这是一种三轴磁场测量仪，能够同时测量频率在50Hz至20kHz之间的交流磁场的X、Y、Z分量，其数值以有效值的形式呈现出来。该仪器的传感器部分采用搜索线圈式结构，最高分辨率可达0.01μT。特征体积轻
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118 | 日本 | 给我留言 |
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这是一种便携式三轴磁场测量仪，可轻松测量直流磁场强度（0～±2000.0μT），并能够存储相关数据。它能够同时显示X、Y、Z轴上的磁场强度以及总磁场强度。该仪器采用平行通量门式传感器，其测量分辨率可达
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125 | 日本 | 给我留言 |
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这是一种便携式单轴磁场测量仪，可用于轻松测量地磁场等直流磁场（0±199.9μT）。其传感器采用磁振荡检测方式，测量分辨率可达0.1μT。特征属于低功耗类型，使用4节单3号电池即可实现长时间连续使用。
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102 | 日本 | 给我留言 |
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产品概述脉冲激光沉积（PulsedLaserDeposition，PLD），是一种利用激光对物体进行轰击，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段，现代PLD系统通常配备反射
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134 | 沈阳 | 给我留言 |
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可通过测量已磁化的产品的磁通量，从而对其质量进行评估和判定。除了手动测量外，还可将其集成到自动化生产线上，用于判断已磁化的产品的合格与否（需要额外的隔离盒）。此外，还提供了便于手动测量的USB输出功能
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113 | 日本 | 给我留言 |
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产品概述脉冲激光沉积（PLD），是一种利用激光对物体进行轰击，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段，现代PLD系统通常配备反射高能电子衍射仪（RHEED）用于实时监控薄膜
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133 | 沈阳 | 给我留言 |
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产品概述该设备具备磁控溅射和脉冲激光镀膜两种功能，配置多个磁控靶和多个激光靶材，两种镀膜方法实现完美互补。产品优势：1、超高真空磁控靶，满足使用环境；2、具有手动和自动两种功能；3、具有远程控制功能；
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127 | 沈阳 | 给我留言 |
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产品概述该设备具备磁控溅射和离子束溅射两种功能镀膜，离子束溅射是一种在高真空环境下通过准直离子束轰击靶材实现薄膜沉积的物理气相沉积技术。离子束溅射利用离子源产生的单能离子束轰击靶材表面，使靶材原子以高
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133 | 沈阳 | 给我留言 |
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特斯拉计/高斯计TM-4702特斯拉计TM-4702能够以高精度测量磁铁等器件产生的磁通密度（直流电情况），以及变压器等器件产生的磁通密度（交流电情况），其测量范围为0.01mT至4.0T。这是一种具
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103 | 日本 | 给我留言 |
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IMF-500磁化强度计在磁化评估、产品开发以及质量控制领域中获得了极高的评价。采用视觉识别度极高的触摸屏操作方式，设计极为直观易用。此外，由于采用了无漂移设计，无需进行繁琐的漂移调整。这不仅减轻了操
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194 | 日本 | 给我留言 |
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产品概述利用磁控溅射方法制备纳米级单层和多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料。工艺性能稳定、模块化结构，采用行业领先的软件控制系统，明显提高效率。可广泛应用于大专院校、科研院所、
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127 | 沈阳 | 给我留言 |
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产品概述纳米团簇薄膜在吸波性能、抗辐照性能等多方面有着优异表现，是一种新型薄膜制备方法。与传统磁控溅射不同之处在于采用高气压（10～100Pa）溅射起辉，辉光区处于低温环境，这样溅射产物会形成纳米颗粒
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126 | 沈阳 | 给我留言 |
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产品概述磁控溅射设备是一种多功能、高效率的镀膜设备。可以在陶瓷、玻璃、石英、硅片等基底材料上溅镀金属、非金属、氧化物、介质等材料的薄膜。溅镀膜层均匀、致密、附着力强，可应用到新型电子材料制备及光学、太
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127 | 沈阳 | 给我留言 |
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这款手持式高斯计仅需1节电池即可驱动，采用紧凑设计，因此可以在任何地方测量磁场强度。由于采用模拟显示方式，因此可以直观地了解磁力的变化情况。型式：TGM-4000、TGM-2000、TGM-200、T
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120 | 日本 | 给我留言 |
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产品描述：本系统为手套箱和真空镀膜机集成在一起的设备，适合哪些对水氧敏感的材料研究，在钙钛矿电池，燃料敏化电池，超导，核工业等领域有广泛应用。产品优势：1.手套箱可集成磁控溅射镀膜机；2.手套箱可集成
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130 | 沈阳 | 给我留言 |
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产品概述本系统为磁控溅射多股卷对卷薄膜沉积设备。设备主要包括卷对卷系统、溅射系统、加热系统、真空获得及测量、气体控制及气路设计、水路系统及微机控制运行系统等组成。卷对卷系统由两个收放带室和镀膜室内的卷
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131 | 沈阳 | 给我留言 |
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产品概述等线原子层沉积（atomiclayerdeposition,ALD）是通过气相前驱体及反应物脉冲交替的通入反应腔并在基底上发生表面化学反应形成薄膜的一种方法，通过自限制性的前驱体交替饱和反应获
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159 | 沈阳 | 给我留言 |
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产品概述离子束刻蚀是在真空中利用离子源产生的带有一定能量的准直离子束进行刻蚀，可以刻蚀几乎已知的任何材料；刻蚀方式有不含反应性离子的物理轰击刻蚀，以及包含了F、O、N等反应性离子的化学刻蚀。产品优势：
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131 | 沈阳 | 给我留言 |
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