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产品用途：此款CVD系统是专门为在金属箔上生长薄膜而设计，特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究，通过滑动炉实现快速加热和冷却。产品组成：CVD系统配置：1.1200度开启式真空管式炉（可
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1200℃双管滑动式四通道混气CVD系统OTF-1200X-4-C4LV是专门为在金属箔表面生长薄膜而设计的，特别是应用在新一代能源——柔性金属箔电极方面的研究。产品型号1200℃双管滑动式四通道混气
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该款箱式炉以瑞典康耐尔电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温。K型热电偶，炉膛采用氧化铝微晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷循环系统，**温度能达到1200℃，可连续工作1100℃，控温精度
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1200℃台式箱式炉（7.2L，含通气孔或观察窗）KSL-1200X采用瑞典康泰尔电阻丝为加热元件，最高温度可达到1200℃，连续工作为1100℃。本机具有表面温度低、升降温度速率快、温场均衡及节能等
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一、产品特色1、开启式、封闭式管式炉：单温区加热炉使用轻质氧化铝纤维材质，K型热电偶测温搭配优质电阻丝为加热原件，内部温场均匀使用寿命长。2、智能工控操作系统智能PID模糊控制，30段可控程序控温，控
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炉体旋转升降，多工位实验；分体式控制器，增加工作空间；电动升降装置，操作方便省力。一、操作便捷性；1、气路连接方式采用了快速连接法兰结构。2、使取放物料过程简化，只需一支卡箍便可完成气路连接，方便操作
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该系列电炉系周期作业，供企业实验室、大专院校、科研院所等单位选用。设备为用户提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境，应用在半导体，纳米技术、碳纤维等新材料新工艺领域。不锈钢管炉产品特点：美观大方——外
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该系列电炉系周期作业，供企业实验室、大专院校、科研院所等单位选用。设备为用户提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境，应用在半导体，纳米技术、碳纤维等新材料新工艺领域。一、操作便捷性；1、气路连接方式采
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一、设备组成该设备主要由开启式加热炉、不可开启加热炉、气路系统、反应管组件、真空系统组成。1、开启式加热炉加热炉膛采用超轻氧化铝纤维材料，配K型热电偶，单点控温；设备升降温控制灵活、加热炉可开启方便客
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DSK10系列高温管式炉是针对高校、科研单位、工业企业、生产研发的，适用于稀土材料、催化剂材料、磁性材料、锂电池正负极材料（锰酸锂、三元、磷酸铁锂、石墨负极、钴酸锂等）等材料的粉体或颗粒的干燥、煅烧等
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产品简介：GSL-1200X-MGI-8是一款1200℃小型8通道管式炉，其炉管直径为20mm，可用于高通量烧结，最高温度可达1200℃。每个加热模块都由独立的温控系统控制，每个炉管采用真空法兰密封，
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1200℃小型井式炉（9L）型号：VBF-1200X产品概述：VBF-1200X立式箱式炉是以进口电阻丝为加热元件，采用K型热电偶和30段可编程温度控制器。上开式炉门结构，方便客户放取样品。该炉具有体
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卧式真空气氛炉是用于各类材料在洁净环境下的样品制备。产品采用环形电热丝在高纯石英真空腔体外均匀加热,热效率高、升温速度快、温度均匀性好。保护气氛内部均匀循环，前进后出，密封部位均采用耐高温密封圈,水冷
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产品简介1206型管式炉以电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和智能化程序控温系统，可控硅控制，控温精度高；双层炉壳间配有风冷系统，有效降低炉壳表面温度；结合我司标准真空、混气系统，可抽真空通气氛；炉盖
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1200℃小型水平真空坩埚炉型号：VBF-1200X-H8产品概述：VBF-1200X-H8是一款已通过CE认证的真空管式炉，加热丝均匀分布石英腔体外侧。腔体尺寸
Φ200x340mm水平安装。
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一、操作便捷性:1气路连接方式采用了快速连接法兰结构。2、使取放物料过程简化，只需一支卡筛便可完成气路连接，方便操作。3、取消了复杂的法兰安装过程，减少了炉管因安装造成损坏的可能。二、结构实用性:1、
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1200℃小型箱式炉型号：KSL-1200X-J产品概述：KSL-1200X-J是一款通过CE认证的小型箱式炉，其炉膛尺寸为150mmX155mmX180mm(4.2L)，采用高纯氧化铝作为炉膛材料，
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MITR-1200X-4.2L是一款小型箱式炉，其炉膛尺寸为150mmX155mmX180mm(4.2L)，采用高纯氧化铝作为炉膛材料，炉膛表面涂有高温氧化铝涂层，以保持炉膛洁净，延长仪器使用寿命和提
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该设备主要用于材料科学、物理、化学等领域的实验研究。用于制备各种功能性薄膜和高性能材料。这些薄膜和材料在半导体、光电子、能源、生物医学等领域都有重要应用。该设备采用高纯石英元件，具有出色的高温稳定性，
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1200℃开启式滑轨管式炉技术参数
产品用途：滑动式真空管式炉是为生长石墨烯研制的专用炉，也同样适用于要求升降温速度比较快的CVD实验。炉体采用MXG1200开启式管式炉，炉底安装有直线滑轨，当
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