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产品用途:此款CVD系统是专门为在金属箔上生长薄膜而设计,特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究,通过滑动炉实现快速加热和冷却。产品组成:CVD系统配置:1.1200度开启式真空管式炉(可
1200℃双管滑动式四通道混气CVD系统OTF-1200X-4-C4LV是专门为在金属箔表面生长薄膜而设计的,特别是应用在新一代能源——柔性金属箔电极方面的研究。产品型号1200℃双管滑动式四通道混气
该款箱式炉以瑞典康耐尔电阻丝为加热元件,采用双层壳体结构和30段程序控温。K型热电偶,炉膛采用氧化铝微晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷循环系统,**温度能达到1200℃,可连续工作1100℃,控温精度
1200℃台式箱式炉(7.2L,含通气孔或观察窗)KSL-1200X采用瑞典康泰尔电阻丝为加热元件,最高温度可达到1200℃,连续工作为1100℃。本机具有表面温度低、升降温度速率快、温场均衡及节能等
一、产品特色1、开启式、封闭式管式炉:单温区加热炉使用轻质氧化铝纤维材质,K型热电偶测温搭配优质电阻丝为加热原件,内部温场均匀使用寿命长。2、智能工控操作系统智能PID模糊控制,30段可控程序控温,控
炉体旋转升降,多工位实验;分体式控制器,增加工作空间;电动升降装置,操作方便省力。一、操作便捷性;1、气路连接方式采用了快速连接法兰结构。2、使取放物料过程简化,只需一支卡箍便可完成气路连接,方便操作
该系列电炉系周期作业,供企业实验室、大专院校、科研院所等单位选用。设备为用户提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境,应用在半导体,纳米技术、碳纤维等新材料新工艺领域。不锈钢管炉产品特点:美观大方——外
该系列电炉系周期作业,供企业实验室、大专院校、科研院所等单位选用。设备为用户提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境,应用在半导体,纳米技术、碳纤维等新材料新工艺领域。一、操作便捷性;1、气路连接方式采
一、设备组成该设备主要由开启式加热炉、不可开启加热炉、气路系统、反应管组件、真空系统组成。1、开启式加热炉加热炉膛采用超轻氧化铝纤维材料,配K型热电偶,单点控温;设备升降温控制灵活、加热炉可开启方便客
DSK10系列高温管式炉是针对高校、科研单位、工业企业、生产研发的,适用于稀土材料、催化剂材料、磁性材料、锂电池正负极材料(锰酸锂、三元、磷酸铁锂、石墨负极、钴酸锂等)等材料的粉体或颗粒的干燥、煅烧等
产品简介:GSL-1200X-MGI-8是一款1200℃小型8通道管式炉,其炉管直径为20mm,可用于高通量烧结,最高温度可达1200℃。每个加热模块都由独立的温控系统控制,每个炉管采用真空法兰密封,
1200℃小型井式炉(9L)型号:VBF-1200X产品概述:VBF-1200X立式箱式炉是以进口电阻丝为加热元件,采用K型热电偶和30段可编程温度控制器。上开式炉门结构,方便客户放取样品。该炉具有体
卧式真空气氛炉是用于各类材料在洁净环境下的样品制备。产品采用环形电热丝在高纯石英真空腔体外均匀加热,热效率高、升温速度快、温度均匀性好。保护气氛内部均匀循环,前进后出,密封部位均采用耐高温密封圈,水冷
产品简介1206型管式炉以电阻丝为加热元件,采用双层壳体结构和智能化程序控温系统,可控硅控制,控温精度高;双层炉壳间配有风冷系统,有效降低炉壳表面温度;结合我司标准真空、混气系统,可抽真空通气氛;炉盖
1200℃小型水平真空坩埚炉型号:VBF-1200X-H8产品概述:VBF-1200X-H8是一款已通过CE认证的真空管式炉,加热丝均匀分布石英腔体外侧。腔体尺寸 Φ200x340mm水平安装。
一、操作便捷性:1气路连接方式采用了快速连接法兰结构。2、使取放物料过程简化,只需一支卡筛便可完成气路连接,方便操作。3、取消了复杂的法兰安装过程,减少了炉管因安装造成损坏的可能。二、结构实用性:1、
1200℃小型箱式炉型号:KSL-1200X-J产品概述:KSL-1200X-J是一款通过CE认证的小型箱式炉,其炉膛尺寸为150mmX155mmX180mm(4.2L),采用高纯氧化铝作为炉膛材料,
MITR-1200X-4.2L是一款小型箱式炉,其炉膛尺寸为150mmX155mmX180mm(4.2L),采用高纯氧化铝作为炉膛材料,炉膛表面涂有高温氧化铝涂层,以保持炉膛洁净,延长仪器使用寿命和提
该设备主要用于材料科学、物理、化学等领域的实验研究。用于制备各种功能性薄膜和高性能材料。这些薄膜和材料在半导体、光电子、能源、生物医学等领域都有重要应用。该设备采用高纯石英元件,具有出色的高温稳定性,
1200℃开启式滑轨管式炉技术参数 产品用途:滑动式真空管式炉是为生长石墨烯研制的专用炉,也同样适用于要求升降温速度比较快的CVD实验。炉体采用MXG1200开启式管式炉,炉底安装有直线滑轨,当
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