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一、操作便捷性;1、气路连接方式采用了快速连接法兰结构。2、使取放物料过程简化,只需一支卡箍便可完成气路连接,方便操作。3、取消了复杂的法兰安装过程,减少了炉管因安装造成损坏的可能。二、结构实用性;1
产品简介:1200℃开启式立式炉OTF-1200X-80-VT是可垂直开启式管式气氛炉,能够实现在真空或气氛保护条件下对样品快速升降温。本机可垂直安装在可移动的支架上,方便炉管的取放。控温仪表操作视频
产品型号KER-GS-4M供电电源380v±10v50Hz±1Hz微波系统功率6000w频率2450±50HZ温度系统测温方式高精度热电偶工作温度100-1200℃极限温度1200℃测温精度±1℃控制
HY-MF型微波马弗炉是实验室专用的标准微波高温设备,适用于各种物料的烧结、合成、焙烧和煅烧等工艺实验研究。
摆动管式炉是一种结合了管式炉高温加热功能与机械摆动装置的实验室或工业设备,主要用于材料在高温环境下的均匀热处理、烧结、合成等工艺。其核心设计通过炉体的周期性摆动,实现炉内样品的动态加热,有效改善温度均
一、操作便捷性;1、气路连接方式采用了快速连接法兰结构。2、使取放物料过程简化,只需一支卡箍便可完成气路连接,方便操作。3、取消了复杂的法兰安装过程,减少了炉管因安装造成损坏的可能。二、结构实用性;1
一、设备简介BTF-1200C-III-210是一款智能型三温区管式炉。该设备配有10寸触控屏控制,操作简单直观,加热系统采用300+300+300mm电阻丝炉膛,可长期在1100℃以下工作。加热炉膛
产品用途:产品专业性:PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。产品组成:PECVD系统配置:1.1
产品用途:此款CVD系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结真空淬火退火,快速降温等工艺实验。产品组成:CVD系统配置:1.120
实验电炉(马弗炉)1200℃电热丝箱式炉本系列电阻炉均系是公司采用国际先进技术,自行研制开发的高性能高节能的新型电炉,采用节能型的陶瓷纤维材料和双层结构可将外表温度降到常温并使得内腔温度分布均匀。并采
一、结构实用性:1、炉膛材料采用优质的多晶莫来纤维真空吸附制成,节能50%,温场均匀。加热元件采用高电阻优质合金丝0Cr27Al7Mo2。2、先进的空气隔热技术,结合热感应技术,当炉体表面温升到达50
立式自动掉料退火炉,一款专门用于高温下样品退火/淬火热处理工艺的自动设备。将材料加热到相变温度以上,然后迅速冷却,配有电动可控脱料装置,可通过设定程序定时等条件,自动完成样件掉落。满足水淬或油淬等工艺
主要特点:1、1200℃开启式真空管式炉不仅可以抽真空,也可以通气体保护。其结构使得拆装炉管方便,操作简捷,使用者可直接将密封腔体移出炉体,加快降温过程,透明石英管腔体可直观的看到样品烧结状态;2、自
一、产品特色1、BTF-1200C-CL是一款带磁力拉杆的管式炉。2、炉膛为440mm温区炉膛,配K型热电偶,单点控温。3、右端石英管配有监测热电偶,可实时监测石英管内部温度。4、采用磁铁吸力将石英舟
该系列电炉系周期作业,供企业实验室、大专院校、科研院所等单位选用。设备为用户提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境,适用于快速热处理和淬火工艺,应用在半导体,纳米技术、碳纤维等新材料新工艺领域。一、操
该系列电炉系周期作业,供企业实验室、大专院校、科研院所等单位选用。设备为用户提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境,适用于快速热处理和淬火工艺,应用在半导体,纳米技术、碳纤维等新材料新工艺领域。一、操
1200℃立式幵启式管式炉采用智能化程序控温系统,可控硅控制,控温精虔高;双层炉壳间配有风冷系统,有效保证外壳表面温虔;幵启式炉盖设计,可在高温情况下观察物料反应情况并实现迅速降温;真空级法兰密封
一、产品特点:1、不锈钢材质快速连接法兰结构。2、电动可控脱料装置(程序自动/手动)。3、可真空或气氛环境下。二、结构实用性:1、炉膛材料采用优质的多晶莫来纤维真空吸附制成,节能50%,温场均匀;电热
产品简介:1200℃立式真空小管式炉OTF-1200X-S-VT是一款小型开启式立式管式炉,适合于对样品在真空或气氛保护环境下吊烧和淬火。采用PID控制器进行温度调节,可设置30段升降温程序,控温精度
1200℃立式管式炉双温区主要特点Mainfeatures:1)管内设计了气氛喷射器可将实验所需气氛直接喷射在物料处,有助于反应更充分。Atmosphereinjectordesigninsidetu
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