首页参展厂商展商动态产品汇总技术文章快速采购通道我的商务中心
您现在的位置:网上粉体展 > 分析仪器设备频道 > 其他专场 > GSL-PECVD-300化学气相沉积
厂商性质:生产商
商品人气:506
联系人:销售部
查看联系方式
我要留言
GSL-PECVD-300化学气相沉积
产品型号:
供应商报价:面议
产地:辽宁
发布时间:2023-08-04
所属分类:首页 > 分析仪器设备频道 > 其他专场 > GSL-PECVD-300化学气相沉积
  • 产品简介
  • 应用行业
  • 典型用户

产品简介:GSL-PECVD-300化学气相沉积采用等离子体增强型化学气相沉积技术,基本温度低,沉积速率,在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,成膜质量好,针孔较少,不易龟裂,适制备非晶硅和微晶硅薄膜太阳电池器件可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。

产品型号

GSL-PECVD-300化学气相沉积

安装条件

本设备要求在海拔1000m以下,温度25±15,湿度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)

2、电:AC380V 50Hz,必须有良好接地

3、气:设备腔室内需充注/氩气(纯度99.99%以上),需自备实验所需气体气瓶(自带?10mm双卡套接头)及减压阀

4场地设备尺寸2200×2000mm×1500mm,承重1000kg以上

5、通风装置:需要

主要特点

1所需成膜温度低

2沉积速率快,应用广泛

3、体积小,操作简便

4、采用射频为增强源易于控制

5、清理安装便捷。

6、一体化触摸屏控制

技术参数

1、系统采用单室式结构,手动前开门;

2真空室组件及配备零部件全部采用优质不锈钢材料制造(304),氩弧焊接,表面采用喷玻璃丸+电化学抛光钝化处理配有可视观察窗口,并带挡板,真空有效尺寸为Φ300mm×300mm;

3极限真空度:≤6.67x10-4Pa (经烘烤除气后,采用600L/S分子泵抽气,前级采用4L/S);

系统真空检漏漏率:≤5.0x10-7Pa.l/S; 系统从大气开始抽气到5.0x10-3 Pa,40分钟可达到; 停泵关机12小时后真空度:≤5 Pa;

4采用样品在下,喷淋头在上的电容式耦合方式进气;

5样品加热**加热温度:500℃,温控精度:±1°C,采用控温表进行控温;

6喷淋头尺寸:Φ90mm,喷淋头与样品之间电极间距40-100mm在线连续可调(可根据工艺调整),并带有标尺指数显示;

7 沉积工作真空:0.133-133Pa(可根据工艺调整)

8射频电源:频率 13.56MHz,**功率500W,全自动匹配;

9、.气体种类(用户提供),使用质量流量控制器控制进气。

10、系统设有尾气处理系统(用户自备)。

产品规格

整机尺寸:1200x1500x1500mm

标准配件

1

电源控制系统

1

2

真空机组

1

3

真空测量

1

关于我们 - 服务专区 - 法律声明 - 诚征合作 - 友情链接 - 广告服务 - 付款方式 - 联系我们

中国粉体网 网上粉体展 版权所有

Powdershow.com.cn Copyright(C)2002-2013,All Rights Reserved

版权所有 未经书面授权,所有页面内容不得以任何形式进行复制