氮化硅压力炉设备用途:
氨化硅基板,氨化硅球以及结构件的烧结。设备特点:
1.温度:max2400摄氏度
2.温度分布精度:R10
3.发热体:石墨
4.压力:1Mpa
5.气氛:N2环境,氧含量小于100ppm