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碳膜溅射设备 CS-200
产品型号:碳膜溅射设备 CS-200
供应商报价:面议
产地:天津
发布时间:2024-12-12
所属分类:首页 > 分析仪器设备频道 > 半导体行业专用仪器专场 > 碳膜溅射设备 CS-200
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产品图片:

产品型号:

CS-200

产品介绍:

Dense carbon film for high temp. anneal

Max. Substrate φ200㎜(Transfer tray available)

 

产品特点:


    • 1. Key point for carbon process
      - Front(Ion Implantation) and Back(Annealing) processes are well known.

  •  

    • 2. Good process experience for CC deposition
      - AIST and SIC production company uses ULVAC system.

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    •  3. Optional items
      - High temp stage, RF stage bias, 3MFC line, DRP, etc.

 


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