IKN铂碳催化剂研磨浆料生产高速研磨机/高速胶体磨改进式/催化剂研磨/炭黑研磨/贵金属材料研磨 高剪切胶体磨

催化剂浆料制备关键点：

稳定均一：①减少尾端颗粒的数量②粒径分布窄

分散性好：减少铂炭催化剂大粒子的团聚

在浆料生产过程中，常见的问题包括：

1.提高催化剂活性

减小催化剂颗粒尺寸可以有效提升其活性，但未分散的颗粒容易形成大团聚物，导致颗粒尺寸增大、比表面积减小，从而降低催化活性。适当的分散有助于提高催化剂活性，进而影响膜电极组件（MEA）的性能.

2.提高催化剂的稳定性和均一性

燃料电池中使用的铂炭催化剂要求铂纳米颗粒的粒径在3-5纳米之间，粒径分布窄，且在炭上均匀分散，不含有害杂质（如氯）。由于3-5纳米铂纳米颗粒的表面能较大，容易发生团聚，因此制备出满足这些条件的铂碳催化剂工艺难度较高，这也是目前主要依赖进口的原因之一.

3.减少催化剂用量和提高利用率

催化剂层（CL）一直面临着阴极氧还原反应（ORR）反应动力学缓慢以及质量传输过电位过高的问题，其中一个主要原因是CL上催化剂团聚体中离聚物对铂（Pt）的覆盖。离聚物覆盖在Pt表面会减少催化活性位点，导致ORR活性损失，而Pt表面高密度过厚的离聚物层则会导致质量传输过电位增加。这些问题都与CL上团聚体的结构密切相关。均一分散的催化剂浆料可以与涂覆工艺相结合，尽量使涂覆层更薄，从而提高催化剂的利用率.

4.连续性生产（稳定性）

分散的铂炭催化剂会随着时间推移发生再聚集，因此分散好的浆料需要尽快进行下一工序以形成催化基层。连续分散过程可以与催化剂浆料的涂布过程同步进行，允许在分散后立即使用催化剂浆料进行连续生产催化剂层。虽然在实际生产中，连续生产可以解决部分问题，但体系稳定的浆料可以显著降低工艺难度。

有很多应用中，200-600目的颗粒度是不够的，需要达到1-2微米甚至更小，常用的研磨设备以及研磨方式已经难以满足此技术要求。上海依肯在传统胶体磨与均质机的基础上，研发出了二者相结合的研磨分散机，其磨头结构采用错齿形，自上而下齿槽深度由深到浅，定转子部分间隙理论上能够实现无限接近，再配合15000RPM的超高转速，当颗粒进入磨头腔体之后，瞬间即可被超微粉碎。从磨头腔体出来后进入分散盘腔内，根据物料的特性及处理量的要求，上海依肯提供2G，4M，6F，8SF不同规格的斜齿，对磨细的颗粒进行二次剪切和分散，防止颗粒抱团。

IKN模块化设计的主要特点如下：

-直立式腔体结构，物料可以全部进入分散腔；

-无死角；

-良好的表面处理；

-符合CIP/SIP的清洗要求；

-低噪音；

-所有接触物料的材质均为SS316；

-小试、中试到量产，平稳过渡；

-仅需简单的更换功能模块，即可满足分散-悬浮-均质-乳化的不同要求；

-卫生设计，适合食品及制药行业；

-可提供特殊材质满足磨损性及腐蚀性产品处理要求。

研磨分散机参数选型表 

表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到大允许量的10%

技术及价格请来电:本公司有样机可供客户购前实验，欢迎广大客户来我司参观指导!

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