RTR溅镀
| 主辊直径 | 1,000mm(φ) x600/1500mm(D) |
| 真空室 | 5 chambers (Unwind、Pre-Heat、 Coating 、Cooling 、Rewind |
| 有效涂层宽度 | 1,350mm/500mm |
| 厚度 | 15~250μm |
| 速度 | 0.5~20M/min |
| 传输张力 | 2~7Kg @1~3 m/min |
| 对准 | ≤±2mm@1~3m/min |
| 溅射材料 | ITO 、Nb₂O5,、SiO2、Si、NbzOX、Cu |
| 厚度均匀性 | ≤±3% |
| 靶材利用率 | 70% |
| 阴极 | Rotatable cathode 4~ 6 sets |
