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刻蚀机

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产品型号：刻蚀机
供应商报价：面议
产地：广东
发布时间：2025-04-03

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主要参数	片盒数量	2CS&2LP
	配置	4 Etch unit
	wafer 类型	圆片
	wafer 尺寸（mm）	50-300
	产能（WPH）	90
	化学药液	H2O2、强酸碱
	衬底材料	Si、Glass、Sapphire、GaN、GaAs、SiC、LiTaO3、Li3PO4
	适用工艺	Wet Etch
	干燥模式	Spin Dry+N2 Dry

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