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双腔型超高真空蒸镀系统

QBT-F

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厦门韫茂科技有限公司

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产品规格型号
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面议

品牌:

韫茂科技

型号:

QBT-F

关注度:

2085

创新点:

厦门韫茂科技有限公司凭借在先进材料设备业务方面多年的经验,韫茂为新型芯片,半导体和锂电池领域的新材料开发和生产,提供最先进的纳米工艺设备和服务解决方案。根据您的特殊需求,我们为您定制打造创新纳米加工平台,保证高品质的设计,多功能,易于使用的界面,严格的安全控制,以及快速的交付和服务。

产品介绍

双腔型超高真空蒸镀系统

1002.png

 技术参数:

1高真空腔体:2个高真空腔体包括负荷锁及Evaporation,极限真空极限压力<2e-8 Torr

2排气速率:ATM到3E-7 Torr<20分钟(装载锁)

3基板加热:RT-600ºC

4离子束清洗:考夫曼离子源,离子能量100-600 eV, 100-1200eV; 离子束电流::20-200mA,或100基板刻蚀
均一性<3%

5高压电源:6-10千瓦电源,1-6源口袋

6成膜均匀性:<3%(6inch  Wafer)



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双腔型超高真空蒸镀系统

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