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真空等离子清洗机
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深圳市科伟达超声波设备有限公司
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科伟达
真空等离子清洗机
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主要用途：
清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。
清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。
移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。
清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。
清洗半导体元件、印刷线路板。
清洗生物芯片、微流控芯片。
清洗沉积凝胶的基片。
高分子材料表面修饰。
牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌。
改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。
适用气体：
压缩空气、氩气、氮气、氧气、均设置有压力表；
KWD—160204SH光学部品超声波清洗干燥机
KWD—1000STH通过式清洗干燥线
干燥/烧结一体炉
KWD-10280SHT全自动半导体晶片清洗机
KWD—100162STH半导体晶片清洗机
KWD—7180TH空调压缩机清洗线
KWD—3000汽车空调压缩机件部件清洗机
KWD—80360STH汽车发动机减速箱件清洗机
KWD—1000STH全自动超高压喷淋单工位清洗干燥机
真空等离子清洗机
