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真空退火炉—VF-200
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合肥致真精密设备有限公司
安徽
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致真精密
真空退火炉—VF-200
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真空退火炉是改善薄膜质量的有效手段，在特殊气体氛围下加热还可以改善薄膜的组分。VF-200是致真设备公司推出的一款标准型退火炉，可与公司其他工艺腔体互联实现薄膜的原位退火，也可以单独使用。还可以选配磁铁模块实现对磁性薄膜的诱导，系统搭配控制软件，运行稳定可靠!
性能参数
晶圆尺寸 | 1inch-8inch |
极限真空 | 5×10-8mbar |
温控 | RT-1200℃，精度±1℃ |
加热方式 | SIC辐射加热 |
气体氛围 | 可在O2等环境下加热 |
互联 | 可与工艺腔体互联实现自动传输 |
真空系统 | 机械泵+分子泵 |
可选 | 磁铁模块、进样室、气氛退火等 |
观察窗挡板
倾斜式高温样品台
蒸发源
圆形互联设备（外置机械臂、内置机械臂）
两个镀膜系统直接互联设备
超高真空管道传输设备
晶圆真空传输平台—VTM
量产型磁控溅射设备—MSI-200
生产型磁控溅射设备—MSI-100-UHV
生产型磁控溅射设备—MSI-100-HV
量产级多功能薄膜沉积设备
分子束外延设备—MBE-400
