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高真空磁控溅射镀膜设备JCP650
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北京泰科诺科技有限公司
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北京泰科诺
高真空磁控溅射镀膜设备JCP650
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基片台尺寸：抽屉式：150mm×120mm 可旋转、升降
膜厚不均匀性：≤ ±5.0%（120mmx120mm 范围内）
溅射靶：6英寸3只
溅射靶电源：1台RF，2台DC
控制方式：PLC/PC 控制 ( 可选 )
占地面积：L2500mmxW1600mmxH1900mm ( 不含手套箱 )
总功率：≥15kW 三相五线制
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