粉体行业在线展览
粉体行业在线展览
CX-RML 立式乳化研磨系列-机械密封
直接联系
上海创行实业有限公司
上海
面议
上海创行
CX-RML 立式乳化研磨系列-机械密封
363
CX-RML 立式乳化研磨系列-机械密封
密封特征：双端面集装式+无死角+静止式补偿
密封应用：电池材料、新材料、涂料油墨、纳米农药、食品日化、等
设备类型：叶片式、涡轮式、多级乳化设备
运行范围：
轴径：d=16mm至100mm
温度：T=-40℃至+280℃
压力：P=≤ 1.6Mpa
转速：V=≤12000r/ms
CX-GMJ-P 干运行/搅拌釜系列-机械密封
CX-GMJ 干运行搅拌釜系列-机械密封
CX-JLB 锂电浆料泵系列-机械密封
CX-RML 立式乳化研磨系列-机械密封
CX-RMW 卧式乳化分散系列-机械密封
CX-SML立式砂磨机系列-机械密封
CX-SMW
CX-ST-D 底入式搅拌器密封
CX-M481/205/206/2004/2005/2006/2007机械密封
平衡型/非平衡型/单端面/双端面/散装式密封
CX-SRM/204/204B/半集装密封
CX-MRD 侧/卧式搅拌器密封
