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LIBS5000在线激光诱导击穿光谱仪是一款专为液体成分检测打造的智能化分析设备，以激光诱导击穿光谱（LIBS）技术为核心，实现对液体中微量元素的精准量化监测。设备采用一体化集成设计，将耐腐蚀性检测探
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3 | 江苏苏州 | 给我留言 |
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激光诱导击穿光谱（LIBS）技术是一种激光烧蚀分析技术，它是将激光聚焦到样品表面，当激光脉冲的能量密度大于击穿阈值能量时，就会在样品局部产生等离子体，随着外界膨胀逐渐冷却，并发射出表征样品组分信息的光
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3 | 江苏苏州 | 给我留言 |
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LIBS3000在线激光诱导击穿光谱仪是一款高端的工业过程分析设备，专为实时监测和控制材料成分而设计。其采用激光诱导击穿光谱（LIBS）技术，集检测探头和控制机柜于一体，内置检测距离自动控制，粉尘烟气
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5 | 江苏苏州 | 给我留言 |
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本机均选用高档耐磨材料作内衬和主要部件，具体有氧化锆、进口聚氨酯、硬质合金等。可配备聚氨酯，氧化铝，氧化锆等材料内衬，根据行业与物料不同可根据客户需求定制。
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14034 | 山东淄博 | 给我留言 |
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红外接种环灭菌器,一种灭菌仪器。应用于接种环、接种针等小型物品的高温灭菌消毒,完全替代酒精灯,方便快捷。可应用于生物安全柜、净化工作台、抽风机旁、流动车上等环境中,甚至野外等恶劣环境下也可方便使用,随
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1504 | 湖南 | 给我留言 |
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单腔型高真空蒸镀系统产品详情：单腔设计，紧凑经济，轻松拥有高质量镀膜系统。技术参数：1极限真空：<2E-7Torr2排气速率：从ATM到3E-6Torr<15min3基板加热：RT-300
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3478 | 福建 | 给我留言 |
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桌面式平片原子层沉积系统原子层沉积（Atomiclayerdeposition)是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应腔体内并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种技术，具有自限性和自饱和。原子层
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3254 | 福建 | 给我留言 |
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超高真空多腔体磁控溅射系统技术参数：基板：可加热至RT-900ºC，可旋转，基板与靶材距离连续可调，晶圆和靶空间可以连续变化极限真空：<3E-9Torr基板传输：高度可靠和可重复的基板传输能力
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4256 | 福建 | 给我留言 |
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自动旋转分样器是将样品分成若干份样品的仪器，是实验室样品取样的一种缩分仪器，此产品能将样品分成8份样品。每份的样品容量是500ml-100ml。旋转分样仪Aode-101是丹东奥德仪器有限公司生产的一
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3853 | 辽宁丹东 | 给我留言 |
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全自动四腔超高真空双倾角镀膜系统QBT-J约瑟夫森结超高压系统全自动四腔超高真空双倾角镀膜系统专专业制备约瑟夫森结制备，可精确生长所需的金属层和氧化绝缘层，确保高性能制备及高成品率；此镀膜仪有进样室、
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2895 | 福建 | 给我留言 |
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双腔体等离子体原子层沉积系统QBT-T设备详情：QBT-A可在任意曲面，如平面、复杂三维结构、多孔基板上沉积高纯度薄膜，且具有优异的台阶覆盖性，适用于微/纳光电子器件、高品质光学和光电子薄膜的制备；此
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2827 | 福建 | 给我留言 |
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双腔体等离子体原子层沉积系统QBT-T原子层沉积（Atomiclayerdeposition)是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应腔体内并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种技术，具有自限性和
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2851 | 福建 | 给我留言 |
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公斤级粉末原子层沉积镀膜系统详情介绍：KG系列粉末ALD包覆设备可用于电池、催化剂、磁性材料等材料的高精度包覆量产。该系统能够包覆原子层级到纳米层级的范围内的厚度，具有超高灵敏度、均一性和重复性，并具
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3748 | 福建 | 给我留言 |
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内外腔型百克级粉体分子层沉积系统技术参数：1样品**装载量：100g(可根据需求定制),也可放置3D基体及多片平片2样品反应温度：RT-300ºC3前驱体：**可包括2组反应气体8组液态或固态反应前驱
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2933 | 福建 | 给我留言 |
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双腔型超高真空蒸镀系统技术参数：1高真空腔体：2个高真空腔体包括负荷锁及Evaporation,极限真空极限压力<2e-8Torr2排气速率：ATM到3E-7Torr<20分钟(装载锁)3
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2632 | 福建 | 给我留言 |
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超高真空双倾角室蒸发设备技术参数：1、UHV超高真空腔体：2腔室，负荷锁和蒸发，负荷锁极限真空极限压力<1E-8Torr，可加热RT-900ºC2、蒸发腔：极限真空极限压力<3e-9Tor
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2502 | 福建 | 给我留言 |
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双腔室超高真空双磁控测射系统QBT-P磁控溅射技术原理在阴极靶的表面上方形成一个正交电磁场。当溅射产生的二次电子在阴极位降区内被加速为高能电子后，并不直接飞向阳极，而是在正交电磁场作用下作来回振荡的近
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2577 | 福建 | 给我留言 |
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高真空磁控溅射系统技术参数：1高真空腔体：2个腔体,包括负荷锁及Sputtering,极限真空，极限压力<5e-9Torr2排气速率：从ATM到1E-7Torr<20分钟(负载锁)3样品台
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2956 | 福建 | 给我留言 |
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QBT-I双腔室高真空高速蒸镀系统产品详情：上下双腔,集表面处理与蒸发镀膜为一体,高效可靠的Indium蒸镀助手。技术参数QBT-I技术参数TechnicalSpecifications(Indium
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2387 | 福建 | 给我留言 |
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实验室纳米砂磨机纳米级科研实验室设备使用场景：高校教学、科研单位科学研发、生产企业新品开发、小样生产等。应用领域：应用于功能陶瓷，打印喷墨，TFT/LCD滤色分散体，锂电池材料，热敏感纸，CMP,陶瓷
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5631 | 上海 | 给我留言 |
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