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DENSsolutions总部位于荷兰，专注于提供先进的原位电子显微镜(In-situTEM)解决方案，致力于开发创新的实验平台和设备，使研究人员能够在电子显微镜下模拟多种实际工作条件，从而实时观察和
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5446 | 荷兰 | 给我留言 |
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SEMPREPSMART离子研磨仪SEMPREPSMART离子研磨仪配备了高能量和可选的低能量氩离子枪。这款设备是用于扫描电子显微镜(SEM)和电子背散射衍射(EBSD)样品的最终加工和清洁的理想选择
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2251 | 匈牙利 | 给我留言 |
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GIB精修离子束系统用于扫描电镜/双束电镜的氩离子束方案TechnoorgLinda的低能氩离子枪（GIB）适用于表面减薄、其他表面处理后的后处理、清洁以及去除无定形和氧化物表面层。当低能氩离子枪集成
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1974 | 匈牙利 | 给我留言 |
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日本ihara伊原电子粒度粉末分析仪黑白透射浓度计TM-5的特点如下：小型便携高性能：在小型紧凑设计的同时，通过高度精密的设计，实现了浓度6.0D的测定。测量值存储功能：可存储100组测量数据。操作简
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128 | 日本 | 给我留言 |
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日本kett凯特石灰粉体白度计C-130的测量范围为5.0-120.0，样品重量约为5.5g（淀粉），显示方法为数码显示（荧光显示管、*小显示位0.1），光源为蓝色LED，功能包括用户标准曲线、灵敏度
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152 | 日本 | 给我留言 |
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透气度平滑度试验机属于材料检测设备，主要用于测量纸张、纸板、塑料薄膜、无纺布、过滤材料等材料的透气度和平滑度。这种设备广泛应用于造纸、包装、印刷、塑料、纺织、食品、制药等行业，用于质量控制和产品研发。
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169 | 日本 | 给我留言 |
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KatanaxX-300X-FLUXER是新一代熔片产品，提供的新功能，可获得****的结果。多样品位熔片机可作为1、2或3位使用，用途广泛，可轻松适应现代实验室的需要。通用、紧凑、安全：你值得拥有高
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2981 | 美国 | 给我留言 |
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设备概述批次生产型高真空蒸发镀膜设备，用于在基板表面沉积各种金属薄膜(Ti\Ni\Ag\Cr\A|等)满足2-12inchWafer生产需求，适合大批量金属沉积工艺或者Liftoff工艺。技术特点双冷
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825 | 江苏 | 给我留言 |
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技术特点大腔体设计，大口径低温泵配置，多种功能可选(热阻，多探头，离子源，双蒸发源等)整机模块化设计，开放式设计。
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820 | 江苏 | 给我留言 |
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批次生产型高真空蒸发镀膜设备，用于在基板表面沉积各种金属薄膜(Ti\Ni\Ag\Cr\AI等)满足2-8inchWafer生产需求，能够最大限度的压缩腔体尺寸，减少抽气时间，提高生产效率。
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1019 | 江苏 | 给我留言 |
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YZ-2050EBI光学真空镀膜机真空室内腔尺寸:p2050mm*H1650mm晶控:MXC-3B+六探头真空系统:扩散泵+双极旋片泵+罗茨泵+维持泵+POLYCOLD蒸发源:双枪+固定阻基
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751 | 四川 | 给我留言 |
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晶控:MXC-3B+六探头空载极限真空:8.0x10-5Pa加热温度:最高300%C电源:三相380V50HZ蒸发源:双枪+固走阻基空载恢复真空:2x103pas15min选件:RF离子源/霍尔源设备
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832 | 四川 | 给我留言 |
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1728 | 四川 | 给我留言 |
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YZ-1100EBI光学镀膜设备YZ-1100EBI光学镀膜设备YZ-1100EBI光学镀膜设备YZ-1100EBI光学镀膜设备YZ-1100EBI光学镀膜设备YZ-1100EBI光学镀膜设备YZ-1
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828 | 四川 | 给我留言 |
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主要用于:主要用于各类AR膜、AF膜、冷光膜、各种滤光片、高反膜、ITO透明导电膜等各类光学膜电学膜的镀制主要用于:主要用于各类AR膜、AF膜、冷光膜、各种滤光片、高反膜、ITO透明导电膜等各类光学膜
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892 | 四川 | 给我留言 |
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814 | 四川 | 给我留言 |
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用途:适用于精密光学元件,高精密光通讯产品镀制光学膜:电学膜、金属膜、激光膜、冷光膜、分光膜、增透膜、各种滤光片、玻璃片及塑胶(树脂)件上镀制增透膜、带通膜和截止膜等各种膜系的镀膜。光学镀膜其他方面有
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805 | 四川 | 给我留言 |
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YZ-2070EBI光学变色龙真空镀膜机该设备主要应用于防伪印刷、工业涂料、工业注塑、化妆品、涂层印染领域变色新材料粉体镀制。
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837 | 四川 | 给我留言 |
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818 | 四川 | 给我留言 |
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YZ-700MS磁控溅射镀膜机用途:主要用于各类电学膜、金属膜、Si02膜等的镀制YZ-700MS磁控溅射镀膜机用途:主要用于各类电学膜、金属膜、Si02膜等的镀制YZ-700MS磁控溅射镀膜机用途:
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849 | 四川 | 给我留言 |
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