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352 四川 给我留言
成都晶柱科技有限公司是一家集、技术服务,超硬材料应用的专业研究、生产和销售为一体的科技型企业。
 
237 四川 给我留言
我司设备生产的晶种特点:֍晶种内部质地干净֍晶种四边四角平整无破损֍颜色统一֍设备可根据参数定制尺寸֍绿色环保,无污染
 
248 四川 给我留言
性能特点:֍环形器和负载,适应多种驻波比的负载֍输出功率可调节֍拥有完善的保护电路,保证功率源的可靠运行֍可远程查看工作状态信息,可远程配置工作参数
 
259 四川 给我留言
2450MHz系列1.5kW、3.0kW、6.0kW、10kW、15kW系列高稳定程控微波源性能特点:֍微波输出功率可调֍环形器和负载,适应多种驻波比的负载֍拥有完善的保护电路,保证功率源的可靠运行
 
275 四川 给我留言
性能特点:֍高效,可以在短时间内产生高密度等离子体֍可通过调节微波功率和气体流量等参数来控制等离子体的密度和温度֍可反复使用,不会对环境造成污染֍可应用于表面改性、涂层制备、清洗等主要技术参数:微波源
 
285 四川 给我留言
性能特点:֍是具有高度灵活性的微波等离子发生器֍可以有效应用在各种精密复杂的科研实验中֍对于表面净化、超细清洗和表面活化及实时样品制备的分析方法多样化应用֍是广泛的操作范围内的气体流量和微波功率等不可
 
268 四川 给我留言
性能特点:֍具有无热阴极、电离度高的特点֍具有可忽略放电室壁的散射的特性֍能在低真空度下工作֍设备性能稳定,使用寿命长主要技术参数:微波源输出功率260W-1500W极限真空度≤5×10-5Pa·m3
 
255 四川 给我留言
微波等离子化学气相沉积(MPCVD)系统——C型一款先进的碟形腔体微波等离子体化学气相沉积设备,可应用于单晶金刚石和多晶金刚石薄膜、类金刚石薄膜的化学气相沉积以及材料表面处理、改性及掺杂等相关研究工作
 
334 四川 给我留言
性能特点:֍采用特殊材质反应腔,能耐高温֍高品质单晶金刚石、多晶金刚石的批量生长֍使用高精度气体流量计,高稳定性֍采用纯净的石英窗主要技术参数:微波功率0.6kW-6kW连续可调2.45GHz反应腔圆
 
247 四川 给我留言
微波等离子化学气相沉积(MPCVD)系统——A型一款典型的微波等离子体化学气相沉积装置,可以在50mm直径的衬底范围内进行金刚石单晶和多晶生长。应用领域:工具、热沉、光学窗口、宝石等。性能特点:֍最大
 
304 四川 给我留言
设备名称:大面积平板镀膜设备设备型号:JCPF1600~4500真空系统:国产或进口分子泵/低温泵+罗茨泵+机械泵高真空系统极限真空:优于2.0×10-4Pa抽速:从大气到3.3×10-3Pa≤30m
 
271 北京 给我留言
设备名称:真空退火/钎焊炉设备型号:VTHK350真空腔室结构:不锈钢双层水冷真空腔室尺寸:Φ350mm×L550mm炉膛尺寸:Φ120mm×L300mm等温区尺寸:Φ120mm×L120mm加热温度
 
305 北京 给我留言
设备名称:真空电弧炉设备型号:VDK250真空腔室结构:不锈钢双层水冷真空腔室尺寸:Φ250mm×H350mm炉膛尺寸:Φ250mm×H350mm等温区尺寸:碳材料:Φ8mm控制方式:手动控制占地面积
 
299 北京 给我留言
设备名称:多功能磁控离子溅射复合镀膜设备设备型号:TSU650真空腔室结构:立式圆柱形前开门,双层水冷,多通用法兰接口真空腔室尺寸:Φ650mm×H650mm工件架尺寸:Φ490mm,4-6工位公/自
 
301 北京 给我留言
设备名称:热丝CVD金刚石膜沉积设备设备型号:HF1200真空腔室结构:立式前开门结构,后置抽气系统,双层水冷真空腔室尺寸:Φ1200mmxH1200mm真空系统:高真空泵组系统基片台尺寸:Φ500m
 
317 北京 给我留言
设备名称:热丝CVD金刚石膜沉积设备设备型号:HF700真空腔室结构:立式前开门结构,后置抽气系统,双层水冷真空腔室尺寸:Φ700mmxH700mm真空系统:高真空泵组系统基片台尺寸:350mm²×3
 
303 北京 给我留言
用于生长毫米级金刚石厚膜、纳米晶金刚石涂层或微米晶金刚石涂层、类金刚石膜、氮化硅和氧化硅膜等,在切削刀具、模具、丝锥、BDD水处理电极等表面沉积金刚石薄膜。热丝化学气相沉积金刚石技术,已广泛应用于国内
 
337 北京 给我留言
设备名称:热丝CVD金刚石膜沉积设备设备型号:HF450真空腔室结构:立式前开门结构,后置抽气系统,双层水冷真空腔室尺寸:Φ450mmxH500mm真空系统:复合分子泵高真空系统基片台尺寸:Φ100m
 
317 北京 给我留言
设备型号:JCPY500真空腔室结构:后置抽气系统真空腔室尺寸:Φ500mm×H450mm带Load-Lock功能支持单片或多片进取样加热温度:室温~500℃基片台尺寸:Φ150mm膜厚不均匀性:Φ1
 
292 北京 给我留言