粉体行业在线展览
磁控溅射箱式真空镀膜机
面议
中科唯实
磁控溅射箱式真空镀膜机
12
主要技术指标:
内腔直径(mm):300、400、450、550、650、750、定制
真空抽率:从大气状态到4×10-3Pa,需要时间≤15min
镀膜室(清洁、空载)极限压力:≤2×10-4 Pa;
保真空(达到极限压力,关闭高阀,1小时):≤ 9×10-2 Pa
膜厚均匀性:≤±2%;
镀膜重复性:≤±2%;
控制程序:
全自动一键式操作,保证镀膜重复性。
全自动程序有可编程模式和固定模式两种可供您选择。
程序设有三级权限,便于管理及维护。
所有数据实时记录,可还原成历史曲线,便于追溯和排查。
关键部件根据实际使用情况,有维护时间显示,即节约成本,又便于维护。
TEM 热、电、气、液、冷冻样品杆
合金分析仪
SHM1000
其他
NAI-ZLY-4/6C
CX-100
EMC-1
HMYX-2000
GPZT-JH10/4W
NJ-80型
X-300 X-FLUXER® 三位全自动熔片仪
NVT-HG型 单晶生长炉