设备功能及特点：

CI- 150A/CI-200A系统是光刻工艺中高度可靠、准确和快速的叠加，是半导体制造行业高产量的关键。凭借其为满足特定工艺要求而设计的多种对准技术及其高度自动化，提供一流的对准精度以实现**生产结果。

前沿模式识别，**限度减少操作员协助；

通过行业**的光均匀性和高度精确的间隙控制实现出色的均匀性

设备特点:

UV-LED光源

安全又环保 无需预热冷却
选用 UV-LED 光源不再需 要预热和冷却，因为 LED 仅 在曝光期间打开。这些因素 显着有助于相对较低的能源 消耗。LED 的使用寿命比传 统灯高出许多倍，从而降低 了更换灯泡所产生的成本。 停工、购买新灯、调整和处 理旧材料都已成为过去。使 用 LED 灯箱既安全又环保， 是健康和职业安全以及环境 保护方面的重要进步。

高精度自动套刻系统

性能提升 品质升级
作为全场曝光系统， CI-150A/CI-200A能够一 次曝光150mm/200mm 晶圆,此系统光均匀性已 超过95%，更能提升产 品品质。它更高的吞吐 量和更低的投资成本直 接转化为更低的拥有成 本，使其成为适用于各 种光刻工艺的**决方 案。

**的光均匀性

高精度 更精准
采用顶部对 准系统， 选用高 清相机及大视野 镜头， 纳米级对 位承载平台以及 低频隔振系统， 在将掩模定位在 晶圆上时可实现 低至 0.5 μm 的 对准精度 。

主要技术参数：