粉体行业在线展览
合成二氧化硅XH10
面议
苏州矽科
合成二氧化硅XH10
932
产品特点
1、经精密分级而制成。
2、超轻密度、低比表面积、化学性质稳定。
应用领域
半导体、高档涂料、、减重材料、隔热材料、纳米浆料等 ;
■ 物理特性
项 目 | 单 位 | 数 值 |
松密度 | g/cm3 | 0.12 |
比表面积 | m2/g | 70 |
吸油值(DBP) | cm3/g | 1.0 |
莫氏硬度 | -- | 6 |
折光率 | -- | 1.45 |
单位 | 典型值 | 检测方法 | ||
化学指标 | SiO2 | % | 99.8 |
ICP-OES |
Fe2O3 | % | 0.002 | ||
粒度分布 | D50 | μm | 7.5 |
欧美克度仪 |
D100 | μm | 25 | ||
水萃取液 | pH | - | 4.5 | PH 计 |
白度 | wb% | 97 |
白度仪 | |
含水量 | % | 0.6 | 105℃/2 小时 |