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立式退火炉
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湖南新天力科技有限公司
湖南
面议
湖南新天力
2445
该设备主要用于半导体硅晶片的退火、具有控温精度高、温度场均衡、升降温速率快、可靠性高等特点,是制作半导体硅晶片材料的必备工艺设备
1、**设计温度:1800℃
2、常用温度:1700℃3、供电电源:AC380V±10%,3相4线, 50Hz4、加热元件:硅钼棒5、适用烧结气氛:氮气、一氧化碳、氩气
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