粉体行业在线展览
略
面议
略
8241
扩散炉是半导体生产线前工序的重要工艺设备之一,用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金和烧结等工艺。水平管式炉的设计考虑了硅片生产的多种工艺性能需要,具有**生产能力和优越的性能指标。
采用高可靠性工控机+PLC模式,对炉温、进退舟、气体流量、阀门进行全自动控制,实现全部工艺过程自动化;
关键部件均采用进口,确保设备的高可靠性;
具有友好的人机界面,用户可以方便地修改工艺控制参数,并可随时显示各种工艺状态;
具有多种工艺管路,可供用户方便选择;
具有多种报警功能及安全保护功能;
具有强大的软件功能,配有故障自诊断软件,可大大节省维修时间;
恒温区自动调整,串级控制,可准确控制反应管的实际工艺温度。
适用晶片尺寸: 2~8英寸圆片
工作温度: 600℃~1300℃;
可配工艺管数量: 1~4管/台
恒温区长度及精度:≤±0.5℃/300~800mm (800℃~1300℃),
单点温度稳定性:≤±0.5℃℃ /24h (1100℃);
温度斜变能力:**升温速率:20℃/min,**降温速率:5℃/min;
具有超温、断偶、热偶短路、工艺气体流量偏差报警和保护功能;
可根据用户要求定制产品。
用于半导体器件、集成电路制造过程中扩散、氧化、退火及合金工艺。