硅负极（纳米硅、氧化亚硅、多孔硅）CVD气相沉积碳包覆回转炉

适用物料：纳米硅、硅氧（氧化亚硅）、多孔硅

使用工况：CVD气相沉积碳包覆（一次包覆、二次包覆）

均匀包覆碳含量：1.6%-22%（可控可调）

适用气体：氮气、氩气、甲烷、乙炔、氨气（丙酮、苯、乙醇、沥青等）

公司备有多台公斤级、百公斤级硅负极用cvd炉系统免费供客户实验用，公司目前已完成300+批次的硅负极cvd实验，通过客户反馈实验数据不断优化cvd炉的设计。通过大量实验积累了丰富的cvd经验。