粉体行业在线展览
VCVD
100-150万元
顶立科技
VCVD
6194
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立式化学气相沉积炉(SiC、BN)
产品描述:
立式化学气相沉积炉(SiC、BN)可用于材料的表面涂层、基体改性、复合材料制备等
应用范围:
外延片基座、晶体炉高温耐材、热弯模具、半导体坩埚、陶瓷基复合材料等
采用先进的控制技术,能精密控制MTS的流量和压力,炉膛内沉积气流稳定,压力波动范围小;
全密闭沉积室,密封效果好,抗污染能力强;
多通道工艺气路,流场均匀,无沉积死角,沉积效果好;
多级高效尾气处理系统,能有效处理高腐蚀性尾气、易燃易爆气体、固体粉尘及低熔点粘性产物,环境友好;
可选配新设计的防腐蚀真空机组,持续工作时间长,维修率极低;
使用工艺气氛:真空/CH4/H2/N2/Ar/BCI3/NH3/MTS。
参数\型号 | VCVD-0305-SIC | VCVD-0608-SIC | VCVD-0812-SIC | VCVD-1120-SIC | VCVD-1520-SIC |
工作区尺寸D×H(mm) | 300×500 | 600×800 | 800×1200 | 1100×2000 | 1500×2000 |
**温度(℃) | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 |
温度均匀性(℃) | ±5 | ±7.5 | ±7.5 | ±10 | ±10 |
极限真空度(Pa) | 1-100 | 1-100 | 1-100 | 1-100 | 1-100 |
压升率(Pa/h) | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 |
加热方式 | 电阻 | 电阻 | 电阻 | 电阻 | 电阻 |
以上参数可根据工艺要求进行调整,不作为验收依据,具体以技术方案和协议为准。
结构形式:卧式-单开门/双开门;立式-上出料/下出料
炉门锁紧方式:手动/自动
炉壳材质:内层不锈钢/全不锈钢
保温材质:碳毡/石墨毡/碳纤维固化毡/陶瓷纤维毡
加热器、马弗材质:石墨/CFC/金属
热电偶:K/N/C/S分度号
真空泵:机械泵组/耐腐蚀泵组