粉体行业在线展览
CVD/CVI/PECVD
面议
CVD/CVI/PECVD
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设备特点
1. 高真空系统由双级旋片真空泵和分子泵组成,**真空可达10-4Pa;
2. 可配合压强控制仪控制气体压力,实现负压的精准控制;
3. 数字质量流量控制系统是由多路质量流量计,流量显示仪等组成,实现气体的流量的精密测量和控制;
4. 每条气体管路均配备高压逆止阀,保证系统的安全性和连续均匀性;
5. 采用KF快速法兰密封,装卸方便快捷;
6. 管路采用世界**Swagelok卡套连接,不漏气;
7. 超温、过压时,自动切断加热电源及流量计进气,使用安全可靠;
8. PECVD借助射频等使含有薄膜组成原子的气体,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,更容易发生反应。
设备参数
类别 | 加热炉 | 射频电源 | 真空系统 | 混气系统 | 压强控制系统 | 尾气处理系统 | ||||
温度 | 加热区 | 型式 | 管径 | 长度 | ||||||
CVD | 1200~ 1700℃ | 220~ 440mm | 卧式、滑动式 | Φ60~ Φ100 | 600~ 1600 | 无 | 10Pa | MFC单路或多路控制 | 可选 |
(可选) |
CVI | 1200~ 1700℃ | 220~ 440mm | 立式、滑动式 | Φ60~ Φ100 | 600~ 1600 | 无 | ||||
PECVD | 1200℃ | 220~ 440mm | 卧式、滑动式 | Φ60~ Φ100 | 1200~ 1600 | 300~ 500W |