椭圆偏振光谱仪主要用于准确测量薄膜厚度，光学常数，薄膜表面粗糙度以及其他的物理，化学，光学性能。美国AST公司设计和制造适合不同应用的高品质椭圆偏振光谱系统，其产品具有强大的分析功能软件TFProbe3.0，可以帮助研发或实验人员迅速地获得薄膜的厚度，表面粗糙度，合金成分和介电常数等数据。

产品特点：

• 易于安装

• 基于视窗结构的软件，很容易操作

• 先进的光学设计，以确保能发挥出好的系统性能

• 能够自动的以0.01度的分辨率改变入射角度

• 高功率的DUV－VIS光源，能够应用在很宽的波段内

• 基于阵列设计的探测器系统，以确保快速测量

• zui多可测量12层薄膜的厚度及折射率

• 能够用于实时或在线的监控光谱、厚度及折射率等参数

• 系统配备大量的光学常数数据及数据库

• 对于每个被测薄膜样品，用户可以利用先进的TFProbe3.0软件功能选择使用NK数据库、也可以进行色散或者复合模型（EMA）测量分析

• 三种不同水平的用户控制模式：专家模式、系统服务模式及初级用户模式

• 灵活的专家模式可用于各种独特的设置和光学模型测试

• 健全的一键按钮(Turn－key)对于快速和日常的测量提供了很好的解决方案

• 用户可根据自己的喜好及操作习惯来配置参数的测量

• 系统有着全自动的计算功能及初始化功能

• 无需外部的光学器件，系统从样品测量信号中，直接就可以对样品进行准确的校准

• 可调节高度及倾斜度

• 能够应用于测量不同厚度、不同类型的基片

• 各种方案及附件可用于诸如平面成像、测量波长扩展、焦斑测量等各种特殊的需求

• 2D和3D的图形输出和友好的用户数据管理界面。

• 可用于微观区域选项的数字成像工具

• 对整个小区域可进行反射测量的整体式反射计

系统配置：

• 型号：SE200BA-MSP-M300

• 探测器：阵列探测器

• 光源：高功率的DUV-Vis-NIR复合光源

• 指示角度变化：可编程设定，自动可调

• 平台：ρ-θ配置的自动成像

• 软件：TFProbe 3.2版本的软件

• 整合了SE和MSP系列的优点

• 计算机：Inter双核处理器、19”宽屏LCD显示器

• 电源：110–240V AC/50-60Hz，6A

• 保修：一年的整机及零备件保修

基本参数：

• 波长范围：250nm到1000 nm

• 波长分辨率: 1nm

• 光斑尺寸：1mm至5mm可变

• 入射角范围：10到90度

• 入射角变化分辨率：0.01度

• 数字成像像素：130万

• 有效放大倍数：1200×

• 长物镜工作距离：12mm

• MSP光速尺寸：2-500μm可调

• 样品尺寸：zui大直径为300mm

• 基板尺寸：zui多可至20毫米厚

• 测量厚度范围*：0nm〜10μm

• 测量时间：约1秒/位置点

• 精度*：优于0.25％

• 重复性误差*：小于1 Ǻ

产品可选项：

• 用于反射的光度测量或透射测量

• 用于测量小区域的微小光斑

• 高分辨率数字摄像头

• 用于MSP的超长物镜

• X－Y成像平台(X-Y模式，取代ρ-θ模式)

• 加热/致冷平台

• 样品垂直安装角度计

• 波长可扩展到远DUV或IR范围

• 扫描单色仪的配置

应用领域： 

• 玻璃镀膜领域（LowE、太阳能…）

• 半导体制造（PR，Oxide， Nitride..)

• 液晶显示（ITO，PR，Cell gap... ..）

• 医学，生物薄膜及材料领域等

• 油墨，矿物学，颜料，调色剂等

• 医药，中间设备

• 光学涂层，TiO2， SiO2， Ta2O5... ..

• 半导体化合物

• 在MEMS/MOEMS系统上的功能性薄膜

• 非晶体，纳米材料和结晶硅

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