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日本真空设备 磁控溅射装置 MSP-8in

MSP-8in

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深圳森泽工业品有限公司

日本

产品规格型号
参考报价:

1万元以下

型号:

MSP-8in

关注度:

12

范围(量程或细度):

0-0.05

创新点:

超大容积 Φ230mm 样品腔体:可同时装载整片 8 英寸晶圆 + 数十片小型试样,兼顾大批量晶圆预处理与多品类科研试样同步检测;
精密针阀氩气稳压系统:精准控制腔内氩气分压,稳定等离子体,提升贵金属膜纯度,延长靶材使用寿命。

产品介绍

该装置是一种利用磁控靶进行金属涂层的设备。可用于处理像8英寸晶圆这样的大面积样品,以及同时处理多个样品。

MSP-8in的靶极电极能够沿着靶金属表面产生多层同心的磁场,通过这些磁场来捕获电子,从而提高用于使靶金属溅射的等离子体离子密度。磁场的强度经过精心设计,以确保从靶心到边缘处,沉积在靶上的金属膜厚度保持一致。

该产品包含设备主体、1块靶金属(请指定种类)、旋转泵以及SUS材质的柔性软管。

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