粉体行业在线展览
槽式清洗机 Ultron B200
面议
佳鼎半导体
槽式清洗机 Ultron B200
461
关键应用:
栅极预清洗
RCA清洗
光阻去除
氧化硅腐蚀
氮化硅腐蚀
CoSix选择性腐蚀
产品优势:
1、占地面积小,将外部unit 集成在设备内部来减小整体的占地面积;
2、高产能,优化的Marangoni Dryer;
3、重新设计槽体流场,较好的清洗效果和均一性;
4、有机清洗,控片回收;
5、机台将back conveyor集成在机台的后上方,节省了空间 ;
6、机台采用PLC和PC的结合控制方式, 系统可靠高;
7、优化机台内部流场设计,带来更好的articleperformance
8、破片侦测系统,防止二次伤害;
槽式清洗机 Ultron B200
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