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ETD-900C是一款具有溅射和蒸发两种功能的镀膜设备,由一台ETD900型溅射仪和一个蒸发电源箱及样品室蒸发上盖组成,由电缆将两个机箱中的控制部件连接起来,通过面板上的按键状态,经溅射机箱中的CPU判别操作项,以确定允许与否(具体操作见说明书)。设备使用简便,性能可靠,蒸发材料为碳绳,溅射材料为金、铂等。
型号 | ETD-900c |
仪器尺寸 | 400mm×300mm×400mm(L×W×H) |
靶(上部电极) | 50mm×0.1mm(D×H) |
真空样品室 | 硼硅酸盐玻璃 160mm×110mm(D×H) |
样品台 | 50mm (D) |
工作电压 | 0-1200V (DC)可调 |
溅射电流 | 0-50mA |
溅射定时 | 1-3600S |
蒸碳电流 | 0-50A(AC) |
真空泵 | 2升机械旋转泵 |
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德国MicroTec—CUT4055
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