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紫外掩膜对准曝光系统

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German First-Nano System 德国韦氏纳米

美国

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产品介绍

美国NXQ以**的性能,经济的价格,深受全球用户喜爱,截至2016年底,超过5000台NXQ曝光系统遍布全世界科研实验室,研发中心。

NXQ4000系列半自动掩膜对准曝光系统,融合了独立的模块化设计,精准控制对准和曝光等特点,自动程序控制使得该系统易于操作存储和使用,适合实验室多用户使用。

该系统特点:

  • 锲型误差补偿系统----独特的WEC设计

  • 紫外灯源的多样性选择

  • 曝光光路的精准控制

  • 视像分辨技术------在Video View Microscope 和Quadcam Microscope中快速切换

  • 高效对准控制-----可选配IR或OBS双面对准

使用领域(包括但不限于下述领域的光刻工艺)

    • 微电子

    • LED/HBLED

    • 3D IC /晶圆制造工艺

    • 2.5D Interposer

    • MEMS

    • BioMEMS

    • 微流控芯片

    • 化合物半导体

    • 太阳能(HCPV)

    • 光电子

型号:

  • NXQ4006半自动型(可处理**6英寸基片)

  • NXQ4008半自动型(可处理**8英寸基片)

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紫外掩膜对准曝光系统

German First-Nano System 德国韦氏纳米

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