如果要用扫描电镜(SEM)或透射电镜(TEM)获得高质量的样本成像，样本需要具有导电性，以避免电荷聚积。 如果样本没有足够高的导电性，您可以用溅射镀膜法快速为其镀上导电层。 还可以使用碳蒸镀或电子束蒸镀方法。 这类镀膜既可以保护样本，增强电子显微成像的对比度，又可以作为小规模样本的透射电镜载网支撑膜。

*适合使用哪种镀膜技术取决于样本特性、要分析的结构大小，以及为电子显微成像制备样本时所需的方法。 对于某些高级应用，您必须对样本进行冷冻断裂，而且可能需要进行冷冻蚀刻。 在这种情况下，您需要一台具有低温传送能力的仪器，在低温条件下对样本进行镀膜，并用低温刀对样本进行断裂。

从低真空溅射镀膜机中完成的室温镀膜，到高真空乃至极低温度下完成的镀膜，徕卡镀膜解决方案可满足各种各样的需求。 仪器旨在改进和优化从基本镀膜到***冷冻断裂应用的各种样本制备工作流程。