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Microlab 科研型多功能直写光刻系统

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苏州苏大维格科技集团股份有限公司

江苏

产品规格型号
参考报价：

面议

品牌：

苏大维格

型号：

Microlab 科研型多功能直写光刻系统

关注度：

192

产品介绍

Microlab科研型多功能直写光刻系统

技术特点

可选配光源:405nmLED、405nmLD、355nmDPSSL

支持4-8英寸幅面基板

高刷新空间光调制无掩模直写

自动聚焦

3D形貌曝光、干涉曝光、偏振曝光

多模式曝光(扫描式曝光、步进式曝光)

多任务模式自动运行

GDSII、BMP、STL等文件格式支持

* 参数取决于选配工件台幅面       * 具体指标因工艺差异有所不同

应用示例


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