半导体行业专用仪器-等离子化学气相沉积系统-PECVD-安徽助研仪器有限公司-产品详情

等离子化学气相沉积系统-PECVD

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品牌：

助研仪器

型号：

等离子化学气相沉积系统-PECVD

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产品介绍

名称：等离子化学气相沉积系统-PECVD

型号：ZYE-1200-PE

简介：为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积法（PECVD）。它是由500W射频电源、1200℃单温区管式炉、三通道质量流量混气系统和真空系统组成。此款PECVD系统用于生长纳米线、石墨烯或SiC薄膜等

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