粉体行业在线展览
CVD 真空化学气相沉积设备
面议
威泰科技
CVD 真空化学气相沉积设备
734
CVD 真空化学气相沉积设备详情
CVD设备适用于热丝法化学气相沉积金刚石,采用钨丝/钽丝作为加热器,加热分解碳物质,激活化学气相反应,制备金刚石膜。
安装形式 | 立式 |
加热器分布方式 | 圆周分布 |
加热器材质 | 钨丝/钽丝 |
保温材料 | — |
MAX温度 | 3000℃ |
控温精度 | ±1℃ |
均温性 | ±5℃ |
极限真空度 | 5×10-4Pa |
均温区尺寸 | 按客户要求定制 |
控制方式 | 自动/手动 |
VHP-H 真空热压炉(卧式)
VSF-V 石英砂熔融炉
VSF-P 真空-高压气氛烧结炉
VPI-M 真空压力浸渍设备
VHP-V 氮化硼真空热压炉(立式)
VHP 防弹陶瓷连续真空热压炉
VHP-D “一拖二”真空热压炉
VSF-H 真空红外钎焊炉
VDSF 真空脱脂烧结炉
CVD 真空化学气相沉积设备
VSF-H 一体式真空钎焊炉
VSF-H 卧式真空钎焊炉