真空擂溃均质工艺

日本石川工场 ZD系列（16ZD/18ZD）立式自动乳钵应用解析

真空环境下粉体/膏体物料擂溃、分散、混炼与脱泡一体化制备

一、引言

在新材料研发、电子浆料、陶瓷粉体、医药膏剂等领域，很多高粘度、易氧化物料在研磨混炼过程中容易包裹气泡、接触空气发生变质，普通搅拌研磨设备很难兼顾均匀擂溃与脱气保护。日本石川工场 ZD 系列立式真空自动乳钵（16ZD、18ZD），是在传统石川式擂溃结构基础上集成真空腔体的自立型设备，可在减压环境同步完成粉碎、分散、混炼、脱泡、浓缩工序，也可通入惰性气体置换腔体氛围，适配对氧气、水分敏感的试样制备场景。

二、设备原理与结构介绍

ZD 系列采用石川 OR 式回转机构，乳钵本体固定不旋转，乳棒在公转的同时伴随自转，沿着外摆线轨迹在钵内持续挤压、揉搓物料，区别于常规搅拌桨的剪切模式，属于温和擂溃加工，减少物料发热与团聚，降低样品劣化风险ishikawako...。 整机为立式高刚性机身结构，运行振动幅度小，批次之间处理一致性稳定。真空密封腔体为原生配套结构，不是后期加装组件，搭配外置真空泵，可实现腔体减压；配套压力表实时监控腔体内压力状态，支持氮气、氩气等惰性气体置换，隔绝空气干扰。 两款机型区分：

• 16ZD：配置单乳棒，推荐加工容积 0.4L，适合小批量配方筛选、少量多品种试样研发

• 18ZD：配置双乳棒，推荐加工容积 1.0L，擂溃作用面积更大，处理效率更高，适合工艺放大评估试验

三、产品特点

1. 真空一体化加工，擂溃同步脱泡，可实现浆料减压浓缩，减少膏体内部气孔，提升成品致密性；惰性气氛模式可抑制粉体氧化、吸潮

2. OR 式外摆线擂溃轨迹，钵内物料无明显死角，粉体解聚、膏体混炼均匀性较好

3. 低速擂溃工艺，剪切作用柔和，加工过程温升低，适合热敏性、易变性材料

4. 配备变频调速与定时控制系统，转速、加工时长按需设定，试验条件可复现

5. 标配瓷质乳钵与乳棒，耐化学腐蚀，不易污染样品；也可根据物料需求更换钵体材质

6. 立式自立落地结构，承重稳定，适配高粘度膏体、填料浆料长时间连续擂溃作业

7. 腔体密封结构可靠，拆装乳钵、清理物料便捷，方便不同配方试样切换使用

四、技术规格

五、主要用途

1. 新能源行业：电池电极浆料、陶瓷电解质粉体的湿法分散、脱泡混炼

2. 电子材料：导电膏、导热填料、封装胶膏的擂溃均质，去除内部气泡

3. 精细陶瓷：陶瓷坯料粉体、色料的超细研磨与混合制备

4. 医药、齿科材料：药用膏体、牙科修复材料的低温擂溃混匀

5. 化工新材料：易氧化粉体、有机复合浆料的惰性气氛下试样制备

6. 实验室研发：配方试验、小试工艺摸索，为后续量产提供稳定工艺数据

六、使用注意事项

1. 真空模式下，含有低沸点溶剂的物料，减压时存在挥发风险，可搭配冷却捕集装置收集溶剂

2. 每次试验结束后及时拆解清洗乳钵、乳棒，避免膏体固化残留，影响下一组样品纯度

3. 惰性气体置换作业时，按规范流程完成腔体空气置换，保障气氛稳定

4. 高硬度物料长期加工，会缓慢磨损乳钵与乳棒，需要定期检查钵体表面状态

5. 设备运行期间，避免超容积加料，防止物料溢出污染真空密封面，影响密封效果

七、小结

石川工场 ZD 系列 16ZD/18ZD 立式自动乳钵，把石川成熟擂溃工艺和真空保护功能结合在一起，兼顾粉体研磨分散、膏体混炼脱泡、气氛保护多种需求。两款容量梯度机型，覆盖实验室小试到工艺中试评估，在对气泡、氧化控制要求严格的新材料领域，是样品制备环节稳定的工艺设备。