粉体行业在线展览
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扩散氧化炉（科研型）
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湖南艾科威半导体装备有限公司
湖南
面议
艾科威
扩散氧化炉（科研型）
902
技术指标
●适用晶片尺寸 ： 2~8英寸圆片
●工作温度： 600℃～1300℃；
●可配工艺管数量：1~2管/台
●恒温区长度及精度：≤±0.5℃/300~600mm （800℃～1300℃），
● 单点温度稳定性：≤±0.5℃℃ /24h （1100℃）；
●温度斜变能力：**升温速率20℃/min，**降温速率5℃/min；
HTK
HXL-1600
BF1200款
固态预锂/预镁化中试炉MGB60-180HH1
箱式炉
OYS-1200C-S系列箱式炉
ZHX-B03183
YQFJ-1712
实验室1400℃箱式炉
GZL系列
MF-1200C-L
MITR-1200X-4.2L
