粉体行业在线展览
超高温退火炉
面议
拉普拉斯
超高温退火炉
930
项 目 | 高温退火激活炉 |
功 能 | • 用于SiC、GaN等高温退火活化工艺 • 满足各种真空、气氛高温退火的激活工艺 |
重要参数 | • **晶圆尺寸:满足6寸以下晶圆工艺要求 • **载片量:50片/批 • **加热温度:2000℃ |
装卸片方式 | • 立式垂直升降 • 立式真空密封系统 |
热场
石英件
BHO200型超高温氧化炉
超高温退火炉
Bhadra™真空成型LVA400
Bhadra™立式
拉普拉斯电池间隙贴膜机
镀膜自动上下料设备
拉普拉斯低压水平化学气相沉积镀膜设备 LPCVD LLP430
拉普拉斯低压水平氧化退火设备 LOX430
拉普拉斯低压水平硼扩散设备 LRB430
拉普拉斯低压水平磷扩散设备 LRP430