粉体行业在线展览
拉普拉斯低压水平氧化退火设备 LOX430
面议
拉普拉斯
拉普拉斯低压水平氧化退火设备 LOX430
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设备的应用及特点:
应用
本设备适合156-210mm硅片生产,能帮助客户降低固定资产投入和运营成本。
产品特点
1. 水平放片,管内空间利用率高,不仅能耗低,且具有业内**的产能;
2. 硅片方向与气流方向一致,硅片对气流阻挡小,片内/片间均匀性更优;
3. 自重挤压,减少硅片间间隙,绕扩/绕镀可控;
热场
石英件
BHO200型超高温氧化炉
超高温退火炉
Bhadra™真空成型LVA400
Bhadra™立式
拉普拉斯电池间隙贴膜机
镀膜自动上下料设备
拉普拉斯低压水平化学气相沉积镀膜设备 LPCVD LLP430
拉普拉斯低压水平氧化退火设备 LOX430
拉普拉斯低压水平硼扩散设备 LRB430
拉普拉斯低压水平磷扩散设备 LRP430
TEM 热、电、气、液、冷冻样品杆
合金分析仪
SHM1000
其他
NAI-ZLY-4/6C
CX-100
EMC-1
HMYX-2000
GPZT-JH10/4W
NJ-80型
X-300 X-FLUXER® 三位全自动熔片仪
NVT-HG型 单晶生长炉