粉体行业在线展览
石墨纯化炉和CVD/CVI/CVA涂层炉
面议
PVA TePla
石墨纯化炉和CVD/CVI/CVA涂层炉
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石墨纯化炉
首先在真空条件下对批量产品进行高温纯化,在该过程中,挥发性成分经高温释放挥发。下一步处理使用卤素气体,确保氯和氟在工艺中作为有效的反应物。典型的**工艺温度为2200℃,但在个别情况下可以达到2400℃。
在这种极端的工艺条件下,必须要**限度地考虑安全问题,并精准了解所用材料的确切特性。
在选择所用的材料和部件时要考虑到反应性气氛,以确保系统具有尽可能长的使用寿命。
为了确保符合德国TA Luft空气质量法规等标准,使用的工艺气体及其反应产物作为废气排放前需要进行后处理。这种后处理通常由一个气体洗涤器来完成。
PlasmaPen™ 大气式等离子系统
PlasmaPen™ 大气式等离子机
射频等离子机
IoN系列等离子系统
条形等离子系统 80 Plus
批量封装处理系统 等离子系统 GIGA690
单晶片系统
GIGAbatch 310M等离子系统
SAM 大视场扫描系统
PVA TePla SAM系列的超声波扫描显微镜
VPD量测系统
雷射量测系统