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ME-Mapping光谱椭偏仪

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武汉颐光科技有限公司

湖北

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产品介绍

一、概述

SE-Mapping 光谱椭偏仪是一款可定制化Mapping绘制化测量光谱椭偏仪,采用行业前沿创新技术,配置全自动Mapping测量模块,通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量,快速实现薄膜全基片膜厚以及光学参数自定义绘制化测量表征分析。

全基片椭偏绘制化测量解决方案;

■ 支持产品设计以及功能模块定制化,一键绘制测量;

■ 配置Mapping模块,全基片自定义多点定位测量能力;

■ 丰富的数据库和几何结构模型库,保证强大数据分析能力

二、产品特点

采用氘灯和卤素灯复合光源,光谱覆盖紫外到近红外范围 (193-2500nm);

高精度旋转补偿器调制、PCRSA配置,实现Psi/Delta光谱数据高速采集;

具备全基片自定义多点自动定位测量能力,提供全面膜厚检测分析报告;

数百种材料数据库、多种算法模型库,涵盖了目前绝大部分的光电材料;

三、参数规格

四、产品应用

广泛应用OLED,LED,光伏,集成电路等工业应用中,实现大尺寸全基片膜厚、光学常数以及膜厚分布快速测量与表征。

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ME-Mapping光谱椭偏仪

武汉颐光科技有限公司

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