半导体行业专用仪器-PVD大面积磁控镀膜设备JCPF2600-北京泰科诺科技有限公司-产品详情

PVD大面积磁控镀膜设备JCPF2600

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品牌：

北京泰科诺

型号：

PVD大面积磁控镀膜设备JCPF2600

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产品介绍

设备名称：PVD大面积磁控镀膜设备

设备型号：JCPF2600

镀膜方式：磁控溅射

真空腔室结构：SUS304 方箱式

真空腔室尺寸：L2600mmxH700mmxW260mm

极限真空：优于 5.0x10-5Pa

基片台尺寸：300mmx400mm向下兼容300mmx300mm

基片温度：常温

溅射靶：矩形平面靶1套，旋转柱状靶2套

控制方式：PLC/PC 控制 ( 可选 )

占地面积：15000mmx5000mm

供电总功率：≥ 20kW 三相五线制

1. 大面积，复合型，批量制备，洁净真空不同功能复合涂层制备，可获得更高电池转换效率；

2. 广泛应用于钙钛矿空穴传输层及金属背电极等膜层的制备；

3. 技术先进、设计优化，性价比高，性能稳定，使用维护成本低；

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PVD大面积磁控镀膜设备JCPF2600

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