粉体行业在线展览
立式炉设备
面议
盛美半导体
立式炉设备
701
具有高产、可靠和稳定的性能。通过高精度的温度控制技术、良好的均匀性和小颗粒控制,来保持优异的薄膜质量;
通过更高性能的增强设计实现高产能,并减少停机维护时间;
运用气体对腔体进行干法清洗,来控制小颗粒杂质;
装载区运用低氧控制技术以抑制晶圆表面的自然氧化。
可以一次性操作装载的晶圆数量为50-125片(晶圆/批)
可配备快速升降温控制系统
腔体原位干法清洗系统
TEM 热、电、气、液、冷冻样品杆
合金分析仪
SHM1000
其他
NAI-ZLY-4/6C
CX-100
EMC-1
HMYX-2000
GPZT-JH10/4W
NJ-80型
X-300 X-FLUXER® 三位全自动熔片仪
NVT-HG型 单晶生长炉