粉体行业在线展览
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高真空磁控溅射薄膜沉积系统--PVD400
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中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
辽宁
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沈阳科学仪器
高真空磁控溅射薄膜沉积系统--PVD400
537
真空室结构:
方形前开门
真空室尺寸:
φ400x400x400mm
极限真空度:
≤6.6E-5Pa
沉积源:
永磁靶3套，φ2英寸
样品尺寸，温度:
φ4英寸，1片，**800℃
占地面积（长x宽x高）:
约1.8米×1.7米×2米
电控描述:
全自动
工艺:
片内膜厚均匀性：≤±3%
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