粉体行业在线展览
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高真空硬碳膜制备系统--FHL600
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中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
辽宁
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沈阳科学仪器
高真空硬碳膜制备系统--FHL600
731
真空室结构:
圆筒形上升盖
真空室尺寸:
φ600×500mm
极限真空度:
≤6.0E-4Pa
沉积源:
样品尺寸，温度:
φ240mm，1片，水冷却
占地面积（长x宽x高）:
约3米×1.1米x2米
电控描述:
全自动
工艺:
提供标准镀膜工艺
特色参数 :
1路工作气路，2路备用气路
产品概述：
本系统为单室立式结构的高真空镀镀膜设备，可用于开发单层膜-类金刚石膜等。系统主要由镀膜室、靶电极、射频电源、样品转台、泵抽系统、真空测量系统、气路系统、电控系统、加热控温系统、水冷却系统等组成。
设备用途：
可用于开发类金刚石膜等
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