专用设备-高真空磁控溅射薄膜沉积系统--PVD500-中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司-产品详情

高真空磁控溅射薄膜沉积系统--PVD500

直接联系

中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司

辽宁

产品规格型号

参考报价：

面议

品牌：

沈阳科学仪器

型号：

高真空磁控溅射薄膜沉积系统--PVD500

关注度：

552

产品介绍

真空室结构:

方形前开门

真空室尺寸:

φ500x500x500mm

产品概述：
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业**的软件控制系统。

设备特点：

本设备是一个镀膜平台，可把磁控靶拆下换电子枪成为电子束镀膜系统、或换蒸发源作为热蒸发系统、或换上离子枪作为离子束镀膜系统等。

设备用途：
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。

产品咨询

高真空磁控溅射薄膜沉积系统--PVD500

请填写您的姓名：*

请填写您的电话：*

请填写您的邮箱：*

请填写您的单位/公司名称：*

请提出您的问题：*

您需要的服务：

询盘报价、价格查询

发送产品资料

与您电话联系

发送

中国粉体网保护您的隐私权：请参阅我们的保密政策来了解您数据的处理以及您这方面享有的权利。您继续访问我们的网站，表明您接受我们的使用条款