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UP-510 碟形腔式MPCVD设备
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深圳优普莱等离子体技术有限公司
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UP-510 碟形腔式MPCVD设备
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UP-510系列碟形腔式MPCVD设备设计先进，性能可靠。硬件配置稳定可靠，软件系统集成度高，易于操作。沉积面积**可达3英寸，生产效率高，适合于生长大面积金刚石薄膜，也可用于单晶多晶金刚石的大批量生产。
| 1.大功率微波系统 | |
| 微波频率 | 2450±25MHz |
| 输出功率 | 0.6kw~10kw 连续可调 |
| 微波泄漏 | 离设备 5cm 处，微波泄漏≤ 2 mw/cm2 |
| 2.真空系统 | |
| 工作气压范围 | 10~300Torr |
| 自动稳压范围 | 40~250Torr |
| 真空泵 | 4.4L/s 旋片式真空泵 |
| 系统漏率 | <1x10-9 Pa*m3 /s (通过氦质谱检漏仪检测) |
| 腔体保压能力 | 每 24 小时压升小于 0.5 Torr |
| 本底极限真空 | 1Pa |
| 3.真空反应腔及基片台 | |
| 反应腔材料及结构 | 碟形不锈钢反应腔 |
| 观察窗口 | 四个 CF 端口， 90°分布。 |
| 测温窗口 | 四个 CF 端口， 90°分布。 |
| 自动控制上盖开关 | |
| 钼基片台直径 | **150mm，建议直径范围 60mm ~75mm |
| 样品台可上下移动 | |
| 4.气路 | |
| 系统自带四路 MFC | |
| 选用日本进口流量计及流量控制阀 | |
| 5.测温系统 | |
| 选用德国品牌红外测温，范围：300~1300 摄氏度 | |
| 6.软件 | |
| 配置 PLC 控制的 15“触摸显示屏，用户操作界面友好，所有操作均可在触摸屏上完成 | |
| 自带缺水，缺气，电源缺相，火球跳变，过温过载，打火等自动保护 | |
| 生产流程通过工艺配方自动控制,可设置多达十套工艺配方 | |
| 系统自带全自动抽气，点火，升温，降温等预设流程，用户操作简便 | |
| 全自动温度控制，气压控制，极大减轻系统操作员的工作量 | |
