粉体行业在线展览
FM-W-PDS
Fastmicro 晶圆表面颗粒物快速检测系统(PDS)
Fastmicro 晶圆表面颗粒物快速检测系统,专为各行业产品表面颗粒污染物直接测量而设计,主要应用于半导体领域的晶圆、薄膜及光罩检测,也可用于显示市场等基板检测。该系统配备 4-12 英寸视场(FOV)扫描区域,支持上下表面检测。其独特光学设计使产品在计量过程中无需移动即可完成检测。该系统可根据不同生产工艺需求进行定制,或直接集成至产线。
生产过程中的一致性测量
快速: 能在数秒内完成大面积成像
定量: 适用于生产与研发环境的验证与监测
操作简便: 不受操作人员影响,自动化,洁净抓取方式
精准: 高分辨率测量(数量、位置、尺寸)
一致性: 每次测量都保持客观、稳定
高通量: 能在工艺时间窗口内得出结果
FM-PDS: 直接检测表面颗粒
该系统可为晶圆制造工艺、下一代化合物半导体以及先进封装应 用,提供高通量的表面颗粒污染检测服务。
该系统对粒径大于 0.1&μm 的颗粒具有高灵敏度,是一种高 效且提供全方位服务的选择。
它能以手动或自动的操作方式,以及 较低的维护成本,取代传统的颗粒检测系统。
对于下一代半导体生产应用, PDS 系统具备独特的属性:双面同 时扫描(选配);
静态视场扫描(在图像采集过程中无需移动产品)。
多功能模块化平台
系 统 可 定 制,以 适 应 每 个 生 产 认 证 流 程,或 融 入 生 产 线 。其 配 置 包括手动或自动晶圆抓取移动设备、用于检测和清洁的封装开启 设备、填充设备、机械臂、检测单元以及清洁设备。
该系统可根据需要客户需求进行定制和扩展。测量模块也可为系 统集成商和原始设备制造商(OEM)提供贴牌服务。
Pharos-STEM
Phenom Pharos
Neoscan N90
Phenom XL
Phenom Pro
ParticleMetric
ParticleX
VSP-G1
N80
N70
N60
TEM 热、电、气、液、冷冻样品杆
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
自动划片机
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等离子化学气相沉积系统-PECVD
定制-电浆辅助化学气相沉积系统-详情15345079037