1.1气相沉积法

气相沉积法包括化学气相沉积法(CVD)和物理气相沉积法(PVD).CVD是一种用于生产高质量、高性能的固体材料的化学过程，这个方法通常应用于半导体领域的薄膜制造.PVD是一种真空沉积法，可以用来制作薄膜和涂层.PVD是材料从凝聚态转变为气态，然后再转变为凝聚态薄膜的一个过程.最常见的PVD过程是溅射和蒸发.PVD常用于制造具有机械、光学、化学或电学性能的薄膜 [14].

1.2高温固相合成

高温固相合成是一种在高温(1 000～1 500 ℃ )下，通过固体界面之间的接触、反应、成核和晶体生长反应生成大量的复合氧化物的方法.高温固相合成应是制备硅碳复合材料一种常用方法，为了防止惰性相硅碳的生成，反应温度通常控制在1200 ℃ [15].在反应过程中，温升速率、反应前驱物的选择和反应温度的高低将直接影响材料的结构和性能.高温固相合成技术因工艺简单，工艺参数易于控制，重现性好而被广泛应用.

1.3机械合金化

与高温固相合成法相反，机械合金化法制备的材料通常具有更小的粒度，更大的比表面积和更均匀的组织[16].机械合金化是一种固态粉末加工技术，涉及重复冷焊、压裂和在高能球磨机中重新焊接混合粉末粒子，从而获得均匀材料的方法，已被证明能够从混合元素或预合金粉末中合成各种平衡和非平衡合金相[17].

1.4静电纺丝

静电纺丝是一种利用静电来喷射聚合物溶液或聚合物的带电细丝的纤维生产方法，其直径一般为几百纳米.静电纺丝技术融合了电喷涂和传统的溶液干法纺丝纤维的优点[18].该过程不需要使用化学凝固或高温来从溶液中产生纺丝，这使得该工艺特别适用于大而复杂的微粒生产纤维 [19-20].静电纺丝技术是可利用各种材料制备纳米纤维的一种低成本、工艺简单的通用方法，改进工艺后的同轴静电纺丝技术可制备纳米管和核壳结构纳米纤维