导读

气相二氧化硅因其纳米级粒径、高比表面积和优异的补强性能，成为化妆品、涂料、医药等行业的关键添加剂。然而，其高硬度、易团聚的特性，使得传统分散工艺难以实现理想的纳米级均匀分散。近年来，高压均质技术的突破为这一难题提供了创新解决方案。

01如何让气相二氧化硅“焕然一新”

初始状态下，这些微小的颗粒极易在溶液中形成肉眼可见的絮凝团，整体呈现不均匀状态，极大限制了其应用效果。

当样品流经高压均质机核心处理腔的瞬间，强大的能量场被精准施加。物料在极端压力驱动下，以极高速度通过特殊设计的均质阀隙。经过高压均质处理后，溶液状态由不均一、易沉降变得清透稳定；气相二氧化硅颗粒实现了高度解聚，均匀、细腻地分散于液相中，均粒径降到了120 nm左右。

气相二氧化硅处理前后对比图

以上数据来自ATS复杂制剂中心

02高压均质机的技术优势

与传统分散设备相比，ATS高压均质机在纳米材料加工中展现出不可替代的优势：

精准控制分散效果：通过调节压力（如 100-1500 bar），可针对不同硬度、团聚程度的材料实现定制化分散。例如，处理高硬度气相二氧化硅时，较高压力可确保颗粒充分破碎；而对敏感材料（如生物聚合物），低压模式可避免结构损伤。

保持材料原生性能：物理分散方式不引入化学添加剂，最大限度保留气相二氧化硅的高纯度和表面活性，使其在复合材料中仍能发挥优异的补强、增稠作用。

规模化生产兼容性：设备支持连续化生产，从实验室小试到工业化量产（最高处理流量可达4000 L/H）均可无缝衔接，且处理效率远高于超声波或机械搅拌等传统方法。

ATS是全国领先的微纳米化解决方案供应商，专注高压均质技术20多年，致力于为生物医药、化妆品、食品、纳米材料等行业提供从研发到量产的全链路纳米化装备与服务。

欢迎致电400-998-7088了解更多气相二氧化硅分散工艺和设备相关信息，期待您的联系。