粉体行业在线展览
AP10
150-200万元
WAB
AP10
9204
研磨介质分离系统的特点是流量优化和导向研磨介质回路。研磨介质在导流环的轴向引导下通过筛网表面。然后,DYNO®-ACCELERATOR DSE 将研磨介质输送回导流环,而不会将其撕裂。
研磨介质在筛面上的轴向引导有助于将较粗的颗粒从其流经的横截面上清除,这也是 DYNO®-MILL ECM-AP 分离系统独特的自清洁效果的基础。
适用于高产量和高粘度产品
更灵活地选择工艺参数
提供金属和陶瓷款式
研磨腔内研磨介质密度分布均匀,可实现最高效率
可使用 ø 0.1 mm 以下的研磨介质进行高效研磨
加速器使研磨珠产生有力的流体运动,从而降低的能耗
整体优化流量控制,实现最佳颗粒停留时间分布
适用于生产所有类型的纳米悬浮液
适合通道模式和循环模式
研磨腔可提供专利排气系统排气
屏幕寿命长
机器操作简单且符合人体工程学原理,可实现最快的产品更换
在更换产品时将清洁剂的成本降至最低
通过对研磨腔进行有效冷却,可研磨对温度敏感的产品
先进的控制理念使得研磨机非常易于操作
低噪音
多种控制解决方案
大流量和高粘度产品的理想之选
创新型 DYNO®-MILL ECM-AP 系列旨在提高产量。
研磨效率高,可研磨到纳米级范围。具有自清洁效果的**分离系统,提高了对高粘性产品的可驾驶性。可以避免因筛网堵塞清洗而导致生产的中断。针对高粘性产品,这是一个非常大的优势。
研磨介质分离系统的特点是流量优化和导向研磨介质回路。研磨介质在导流环的轴向引导下通过筛网表面。然后,DYNO®-ACCELERATOR DSE 将研磨介质输送回导流环,而不会将其撕裂。
研磨介质在筛面上的轴向引导有助于将较粗的颗粒从其流经的横截面上清除,这也是 DYNO®-MILL ECM-AP 分离系统独特的自清洁效果的基础。
缸体净容积为9升,采用WAB高效涡轮加速器,比传统盘片式机型效率提升6~8倍
涡轮加速器能确保研磨珠高能量均匀运动,从而保证了高效一致的能量输入,能满足黏度从低到高各种产品的研磨需求
较小的研磨容积和理想的冷却效果确保了对温度敏感产品的顺利研磨
不用打开缸体就能更换筛网,便于维护保养
材质和设计实现了更为方便的清洗,节省了清洗时间和成本,很好地适应客户在多种产品之间的快速转换
缸体和涡轮盘有不锈钢,硬化不锈钢,碳化硅,硬铬合金,氧化锆等材质选择,确保了更长的使用寿命
AP系列还有0.5升,1.9升,21升,62升等缸体容积可供客户选择
DYNO®-MILL RL
T2GE
UBM 20
UNI LAB
WAB IMPA°CT REACTOR®化学反应器
AP10
ECM-AP 05
ECO5
DYNO®-MILL KD系列
DYNO®-MILL NPM Pilot
DYNO®-MILL MULTI LAB
dyna-MIX® CM 1000